09.03.2023  Продукты, Компьютеры, ноутбуки и КПК

Согласно заявлению Вана Жуя (Wang Rui), главы Intel China, американский чипмейкер произвёл в своих лабораториях успешный процесс литографирования СБИС по технологическим нормам Intel 20A и Intel 18A, где числом с литерой А обозначается условное предельное разрешение (минимальное расстояние между соседними полупроводниковыми элементами) в ангстремах: 10 Å = 1 нм. При этом техпроцесс Intel 20A содержит два принципиальных новшества по сравнению с внедряемыми в настоящее время тайваньской TSMC 2-нм производственными нормами. Это транзисторы RibbonFET с окружными затворами и новая схема подачи питания PowerVia на логические элементы — с тыльной стороны полупроводниковой пластины-основания. Эксперты отмечают, что ставка сразу на два столь кардинально новых подхода действительно способна обеспечить Intel технологическое лидерство ... читать далее.