01.09.2004  Новости

Корпорация IBM намерена использовать при производстве микросхем следующих поколений иммерсионную литографию. Об этом заявил директор отделения IBM по исследованиям и разработкам NanoTech Джим Райен (Jim Ryan). 25 августа NanoTech объявило о том, что начинает выпуск схем по иммерсионной технологии на длине волны 193 нм с использованием подложек диаметром 300 мм на экспериментальной установке иммерсионной литографии голландской компании ASML. В настоящее время при производстве схем на 300 мм подложках IBM применяет сканеры ASML. Исследователи из NanoTech, ASML и TEL совместно разрабатывают материалы и процессы для иммерсионной литографии на длине волны 193 нм с использованием подложек диаметром 300 мм. В 2003 г. IBM планировала применять установки, работающие на свете длиной волны в 193 нм, для производства микросхем по технологическим нормам 65 ... читать далее.