06.02.2001  Новости, Промышленная автоматизация/САПР

     Исследователям университета Аугсбурга (ФРГ) впервые удалось получить из алмазной пыли однородное покрытие, пригодное для изготовления микросхем. По мнению специалистов, изготовленные по этой технологии алмазные чипы будут обладать большей, чем кремниевые, устойчивостью к температурным (500°C и выше) и токовым нагрузкам. При этом они смогут выдавать “на гора” лучшие показатели быстродействия и производительности.Эксперименты по созданию полупроводников на основе алмаза проводятся во всех лабораториях мира уже почти 10 лет. Основная проблема до сих пор состояла в невозможности добиться одинакового ориентирования в алмазном слое, искусственно создаваемом из множества мельчайших отдельных кристалликов: каждый из них предпочитал сохранять свою ориентацию. Полученный субстрат оставался в результате ... читать далее.