20.04.2017 Новости, Мобильные и беспроводные решения
Новая версия техпроцесса позволяет поднять быстродействие транзисторов на величину до 10%, и снизить уровень энергопотребления на величину до 15%
Как и все контрактные производители полупроводниковых изделий, Samsung непрерывно совершенствует литографические технологии. На этой неделе компания сообщила о завершении квалификационных процедур в отношении второго поколения 10-нм техпроцесса, которое получил условное обозначение 10LPP (Low Power Plus). Заявлено, что новая версия техпроцесса позволяет поднять быстродействие транзисторов на величину до 10% и снизить уровень энергопотребления на величину до 15% по сравнению с 10-нм техпроцессом первого поколения (10LPE). Samsung выпустила несколько мобильных чипов на базе 10LPE. В частности, этот техпроцесс стал основой для производства чипа для Galaxy S8. Компания освоила 10LPE с использованием технологии FinFET в октябре прошлого года. В производстве 10-нм чипов применяется метод тройного структурирования, то есть контур ...
читать далее.
