02.03.2007  Новости

Корпорация Intel объявила о намерении инвестировать от 1 до 1,5 млрд. долл. в модернизацию своих производственных мощностей в Рио-Ранчо. После переоборудования размещенная там фабрика Fab 11X будет выпускать микросхемы по 45-нанометровой производственной технологии следующего поколения и станет четвертой такой площадкой у Intel. Ввод в эксплуатацию новых производственных мощностей намечен на вторую половину следующего года. Пока фабрика выпускает микросхемы по 90-нанометровой технологии на базе кремниевых подложек диаметром 300 мм. Разработанный Intel 45-нм техпроцесс подразумевает использование металлического затвора и изоляторов с большой диэлектрической постоянной (high-k) — такое сочетание позволяет существенно снизить токи утечки и сократить время переключения транзисторов. Массовое производство микросхем ... читать далее.