28.10.2005  Новости

Корпорация Intel 24 октября сообщила, что она планирует вложить 650 млн. долл. в модернизацию своей фабрики Fab 11X в Рио-Ранчо (шт. Нью-Мексико) для увеличения производства микросхем на пластинах диаметром 300 мм. Президент и исполнительный директор Intel Пол Отеллини сказал: “Модернизация фабрики позволит нам лучше удовлетворять требования заказчиков и улучшить соотношение стоимость/эффективность всего нашего производства.” Строительство помещения и монтаж оборудования займут весь следующий год, а выпуск продукции начнется в первые месяцы 2007-го. Инвестиции приведут к созданию более 300 новых рабочих мест. Эти инвестиции являются частью стратегического плана компании по увеличению мощностей по обработке 300-мм подложек с применением 90- и 65-нм технологических норм и с перспективой перехода к их уменьшению. У Intel есть ... читать далее.