06.06.2016 Новости, Идеи и практики автоматизацииЛазерные установки разгона процессоров стали в миллион раз меньше
Группа учёных Гонконгского, Гарвардского и Калифорнийского университетов, а также Сандийской национальной лаборатории (США) разработали технологию создания микроскопических лазеров на поверхности кремниевых чипов. Она позволит ускорить работу процессоров и может совершить революцию в полупроводниковой промышленности, пишет EurekAlert. За разработкой технологии стоит желание учёных найти эффективный способ устранения дефектов в кристаллической решетке кремния. Эти дефекты не позволяли использовать лазеры для ускорения работы кремниевых чипов. Поиск решения, как пишет издание, потребовал тридцати лет исследований. Что касается деталей технологии, то сообщается, что в её основе лежит применение арсенида галлия в качестве подложки. Кроме того, в кристаллической решетке создали субволновые полости ...
читать далее.