28.03.2014 НовостиПо сообщению «НИИМЭ и Микрон», производителя микросхем и RFID-продукции, входящего в холдинг «РТИ», компания завершила разработку собственной технологии создания интегральных схем по топологии 65 нм и планирует в 2014 г. начать их серийное производство на своем заводе в Зеленограде. Разработка технологии заняла около двух лет, и в декабре 2013 г. были получены первые работающие тестовые кристаллы. Как показали исследования, транзисторы в новых кристаллах работают в 1,5 раза быстрее, чем выполненные по 90-нм технологии, при одновременном снижении потребляемой энергии более чем вдвое. В технологическом процессе использовалась УФ-фотолитография (излучение с длиной волны 193 нм), которая применяется для серийного производства 90-нм чипов. Для получения транзисторов по топологии 65 нм специалисты «Микрона» ...
читать далее.
